asml euv原理
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「asml euv原理」文章包含有:「【ASMLWhiteboardSession」、「全方位微影技術介紹」、「全球瘋搶EUV曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光」、「半導體產業不可或缺的曝光機,是「這些企業」的心血結晶!」、「挽救摩爾定律:ASML極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程」、「摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機」、「極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術...」、「藉助CO2高功率雷射系統和錫產生EUV輻射」
查看更多![【ASML Whiteboard Session](https://api.multiavatar.com/%E3%80%90ASML+Whiteboard+Session%EF%BD%9CEUV%E6%A5%B5%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89%E7%9A%84%E7%94%A2%E7%94%9F%E2%98%84%EF%B8%8F%E3%80%91....png?apikey=viVnb6N20jclO8)
【ASML Whiteboard Session
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今天Scott為大家分享EUV極紫外光的產生原理:我們如何將CO2 Laser(二氧化碳雷射)的能量提高一萬倍,再將高能雷射導入Vessel中擊打液態錫滴,使其產生EUV極紫外光,並透過 ...
![全方位微影技術介紹](https://api.multiavatar.com/%E5%85%A8%E6%96%B9%E4%BD%8D%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E6%8A%80%E8%A1%93%E4%BB%8B%E7%B4%B9+-+ASML.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
全方位微影技術介紹
https://www.asml.com
ASML是全世界唯一採用極紫外光的微影設備製造商。為了能控制EUV極紫外光光源,並推動EUV微影系統商用化,20多年來,ASML持續投入研發,克服各種艱難的技術挑戰。
![全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光](https://api.multiavatar.com/%E5%85%A8%E7%90%83%E7%98%8B%E6%90%B6EUV+%E6%9B%9D%E5%85%89%E6%A9%9F%EF%BC%81%E7%A9%B6%E7%AB%9F%E6%98%AF%E6%91%A9%E7%88%BE%E5%AE%9A%E5%BE%8B%E7%9A%84%E6%95%91%E5%91%BD%E6%9B%99%E5%85%89+-+%E7%A7%91%E6%8A%80%E9%AD%85%E7%99%AE.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光
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簡單來說,當工程師規劃好晶圓上各區域的功能後,會將電路圖刻在石英片上面,製作成「光罩」,當光束從光罩上方照下來,透過由透鏡組成的光學系統,照射到 ...
![半導體產業不可或缺的曝光機,是「這些企業」的心血結晶!](https://api.multiavatar.com/%E5%8D%8A%E5%B0%8E%E9%AB%94%E7%94%A2%E6%A5%AD%E4%B8%8D%E5%8F%AF%E6%88%96%E7%BC%BA%E7%9A%84%E6%9B%9D%E5%85%89%E6%A9%9F%EF%BC%8C%E6%98%AF%E3%80%8C%E9%80%99%E4%BA%9B%E4%BC%81%E6%A5%AD%E3%80%8D%E7%9A%84%E5%BF%83%E8%A1%80%E7%B5%90%E6%99%B6%EF%BC%81.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
半導體產業不可或缺的曝光機,是「這些企業」的心血結晶!
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以EUV 曝光機為例, ASML 技術開發副總裁Tony Yen 在今年三月接受媒體採訪的時候曾經表示, EUV 曝光機由超過10 萬個精密零組件組成;相關報導也 ...
![挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程](https://api.multiavatar.com/%E6%8C%BD%E6%95%91%E6%91%A9%E7%88%BE%E5%AE%9A%E5%BE%8B%EF%BC%9AASML+%E6%A5%B5%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89%EF%BC%88EUV%EF%BC%89%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E6%8A%80%E8%A1%93%E9%87%8F%E7%94%A2%E7%9A%84%E9%96%8B%E7%99%BC%E6%AD%B7%E7%A8%8B.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程
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![摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機](https://api.multiavatar.com/%E6%91%A9%E7%88%BE%E5%AE%9A%E5%BE%8B%E7%9A%84%E8%8F%AF%E9%BA%97%E8%AC%9D%E5%B9%95%EF%BC%9AEUV%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E6%A9%9F+-+DIGITIMES.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機
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此機的概念是由中研院院士林本堅任職於台積電所提出的,原理上當光通過液體介質的時候,其速度會變慢,也就是波長會變短。因此若將被曝光的晶圓浸泡在液體 ...
![極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...](https://api.multiavatar.com/%E6%A5%B5%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89EUV%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E6%98%AF%E4%BB%80%E9%BA%BC%EF%BC%9F%E5%BD%B1%E7%89%87%E7%9B%B4%E6%93%8A%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB%E6%8B%9A5%E5%A5%88%E7%B1%B3%E7%9A%84%E9%97%9C%E9%8D%B5%E6%8A%80%E8%A1%93+....png?apikey=viVnb6N20jclO8)
極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...
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ASML指出,在半導體製程中微影(Lithography)是驅使晶片效能更高、成本更低的關鍵技術。早期晶片可以容納數千個微米大小的電晶體(Transistor),目前最 ...
![藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射](https://api.multiavatar.com/%E8%97%89%E5%8A%A9CO+2+%E9%AB%98%E5%8A%9F%E7%8E%87%E9%9B%B7%E5%B0%84%E7%B3%BB%E7%B5%B1%E5%92%8C%E9%8C%AB%E7%94%A2%E7%94%9FEUV%E8%BC%BB%E5%B0%84+-+TRUMPF.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射
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製造晶片時TRUMPF高功率雷射放大器發揮關鍵作用:因為藉助它可生成發光等離子體,從而提供極紫外光(EUV) 曝光晶圓。TRUMPF與全球最大的光刻系統製造商ASML以及光學元件 ...